A new technique measures free-form wafer shape, write Marco Franchi, Wooptix, and Leon van Dijk, Ronald Otten, Richard Van Haren, ASML. On-product overlay (OPO) is one of the most critical parameters ...
「特許ウオッチ」では、NIKKEI Tech ForesightとPatentfieldが共同開発したアルゴリズムに基づいて、重要性が高いと考えられる特許出願を紹介します。対象は日本の特許出願です。アルゴリズムでは「技術の革新性」「出願人にとっての緊急性」「国際出願 ...
一部の結果でアクセス不可の可能性があるため、非表示になっています。
アクセス不可の結果を表示する